高壓放大器在變形鏡影響函數測試研究中的應用
實驗名稱:低階大行程像差補償器件性能測試
測試目的:根據設計方案和研究結果制備了基于低階像差的3單元單壓電片變形鏡作為低階大行程像差補償器件,搭建實驗系統對其相關性能進行了測試,并與仿真結果進行了對比分析。
測試設備:高壓放大器、哈特曼傳感器、雙壓變形鏡、計算機等。
實驗過程:
圖1:變形鏡影響函數測試系統結構流程圖
圖2:實驗光路圖
哈特曼波前傳感器自帶光源發出的光束經傳感器內準直擴束系統和分光反射鏡組合后入射到變形鏡表面,光束經變形鏡反射后,帶有變形鏡鏡面信息的光束入射到哈特曼傳感器內采集相機靶面上,由哈特曼傳感器控制計算機完成波前復原,完成變形鏡面形的測試。
波前探測裝置為自帶準直光源、通光孔徑為30mm的哈特曼傳感器,探測結果和圖像采集均由波前采集控制中心完成,驅動電壓由控制中心產生電壓信號,經47通路的高壓放大器放大輸出。
實驗結果:
圖3:激光干涉儀測初始面形圖
從圖中結果可知,變形鏡全口徑面形PV大約為3.35個波長,15mm有效口徑內面形PV大約為1.12個波長,干涉儀測試激光波長為650nm,有效口徑內初始面形PV值為0.73μm。硅鏡拋光過程和變形鏡粘接過程都可能導致初始面形的不平整,在閉環校正過程中,變形鏡能對自身初始面形進行校正。
圖4:哈特曼傳感器測初始面形圖
用哈特曼傳感器測量有效口徑的初始面形結果如上圖,初始面形PV值為0.79μm,與干涉儀測量結果大致相同。
影響函數反應了變形鏡在驅動電壓下的表面變形能力。影響函數的面形特點直接決定了變形鏡對波前畸變的補償精度,其幅值大小也決定了變形鏡的校正行程,行程越大,變形鏡單次校正像差的能力越強,閉環校正速度也越快。
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